氣液處理(lǐ)器為(wèi)框架組合式結構，由堿液換熱器，氫、氧分(fēn)離器，氫、氧洗滌冷卻器，循環泵，堿液過濾器及閥門、管道、管件、氫、氧純度分(fēn)析儀，氣動薄膜調節閥、一次儀表、框架等組成。

設備構成如圖所示：

氣液處理(lǐ)器内部結構圖

下圖為(wèi)氣液處理(lǐ)器典型流程圖，電(diàn)解槽電(diàn)解産(chǎn)生的氫氣和氧氣經各自通道分(fēn)别進入氣液處理(lǐ)器，經冷卻、分(fēn)離、除濕淨化後進入各自儲罐或純化系統；電(diàn)解液經過濾器去除機械雜質(zhì)後由循環泵打回電(diàn)解槽。

氣液處理(lǐ)器按介質(zhì)可(kě)将系統劃分(fēn)成氫、氧氣體(tǐ)系統，堿液循環系統，水堿補給系統及冷卻水系統。

氫、氧氣體(tǐ)系統

從電(diàn)解槽出來的氫氣堿液混合體(tǐ)經換熱器降溫，進入氫分(fēn)離器後，在重力作(zuò)用(yòng)下進行氣液分(fēn)離，氫氣由上層管道進入氫洗滌器，經洗滌器冷卻、洗滌以及捕滴網捕滴，最大限度減少氣體(tǐ)中(zhōng)的含堿量和含水量，最終經薄膜調節閥放空或進入純化裝(zhuāng)置。

氧氣處理(lǐ)過程與上述過程相同。

電(diàn)解液循環系統

氫氧分(fēn)離器中(zhōng)的堿液經分(fēn)離器底部的連通管彙集，在循環泵的驅使下經堿液過濾器去除機械雜質(zhì)，後進入電(diàn)解槽來參與下一次電(diàn)解反應，形成閉環系統。洗滌器中(zhōng)洗出的堿液可(kě)由溢流管返回氣液分(fēn)離器。

水堿補給系統

随着制氫設備的運行，系統内的水不斷消耗并體(tǐ)現在氫氧分(fēn)離器的液位不斷下降，當液位低于系統設定值時，系統内的加水泵就會自動啓動，将水箱中(zhōng)的水注入氫（氧）洗滌器并溢流至分(fēn)離器中(zhōng)，當分(fēn)離器液位上漲至設定上限時，加水泵自動停止工(gōng)作(zuò)；當堿液的濃度下降時，也可(kě)以将堿箱中(zhōng)少量堿液直接打入電(diàn)解液循環系統。

由冷卻水總管道來的冷卻水分(fēn)兩路進入設備，一路通過氣動薄膜調節閥進入堿液換熱器，冷卻循環堿液，通過控制薄膜閥調節冷卻水量，從而使電(diàn)解槽的工(gōng)作(zuò)溫度維持在85±5oC；另一路通過球閥進入氫、氧洗滌器中(zhōng)，來冷卻氣體(tǐ)，降低氣體(tǐ)的含堿量和含水量，确保出口氣體(tǐ)的溫度不高于40oC。